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白炭黑濕法改性高剪切分散機(jī)功率4KW，轉(zhuǎn)速0-18000rpm，線速度0-44m/s，電壓380V，機(jī)器產(chǎn)量為0-300升/小時(shí)（水），重量50KG，尺寸（長寬高450X350X750）mm，使用雙機(jī)械密封，可24小時(shí)不停機(jī)連續(xù)生產(chǎn)，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻。機(jī)械密封和機(jī)械設(shè)計(jì)符合3A健康標(biāo)準(zhǔn)，是實(shí)驗(yàn)和中試生產(chǎn)的理想選擇。

石墨烯導(dǎo)電銀漿分散機(jī)用*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)將傳統(tǒng)的膠體磨和分散機(jī)合二為一，并配合超高速的轉(zhuǎn)速，轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，研磨分散效果更佳。

石墨烯片層機(jī)械剝離分散機(jī)可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

石墨烯橡膠復(fù)合漿料分散機(jī)采用太倉希德技術(shù)，*創(chuàng)意，融化理念。將SID高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來XM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。

陶瓷隔膜漿料研磨分散機(jī)具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

納米金屬氧化物高剪切分散機(jī)在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

發(fā)酵液均質(zhì)高剪切分散機(jī)特別適合于膠體溶液，超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，XM在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被稱做濕磨。

醫(yī)用二氧化鈦乳液分散機(jī)采用博格曼雙端面機(jī)械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行。而普通乳化機(jī)很難做到連續(xù)長時(shí)間的運(yùn)行，并且普通乳化機(jī)不能承受高轉(zhuǎn)速的運(yùn)行。